Чутлива шкіра, схильна до подразнень та акне, заслуговує особливого догляду. Його забезпечить заспокійлива маска I'm from Mugwort, яка містить 2,1 % порошку з листя полину. Гелева текстура сприяє глибокому зволоженню, а завдяки охолоджувальному ефекту маска миттєво заспокоює подразнення. Ба більше, її рослинний склад надзвичайно щадний, тому маску можна використовувати щодня. 

Властивості:

• миттєво заспокоює подразнену шкіру
• приємно охолоджує й освіжає шкіру
• сприяє зменшенню помітності недоліків
• позбавляє шкіру токсинів і забруднень 
• пом’якшує текстуру шкіри й робить її гладенькою
• підходить для щоденного використання
• призначена для подразненої й чутливої шкіри

Склад:

• 2,1 % порошку з листя полину з південнокорейського острова Ганхва 
• екстракт кореня солодки – сповнює шкіру сяйвом
• алантоїн, екстракт щитолисника азійського й пантенол – заспокоюють подразнену шкіру

Спосіб застосування:
Нанесіть маску I'm from Mugwort на чисту шкіру. Наберіть потрібну кількість маски й розподіліть по всьому обличчю. Залиште на 5-10 хвилин, після чого змийте теплою водою.