Опис Shiseido Future Solution LX Extra Rich Cleansing Foam
Опис Shiseido Future Solution LX Extra Rich Cleansing Foam
| Kонсистенція | пінка |
| Тип шкіри обличчя | нормальна, суха |
| Властивості | очищення |
Свіжа й гладенька шкіра, ідеально підготовлена до подальшого догляду? Очищувальна пінка для обличчя Shiseido Future Solution LX забезпечить саме такий результат. Ця розкішна піна очистить ваше обличчя від усіх забруднень, зокрема макіяжу й надлишків шкірного сала. Водночас вона не порушує природну гармонію зволоження шкіри – лише готує її до наступного кроку вашої процедури догляду.
Властивості:
- підтримує в шкірі оптимальний рівень вологи, робить її чистою й сяючою
- підтримує молодий вигляд шкіри й розгладжує її поверхню
- готує шкіру до кращого вбирання наступних засобів
- освіжає шкіру, повертає їй пружність і міцність
- некомедогенний засіб
Склад:
- Oshima Sakura Leaf Extract – дарує свіжий вигляд
Спосіб застосування:
Витисніть приблизно 1 см засобу на долоні й у поєднанні з холодною або теплою водою утворіть на шкірі рясну піну. Ніжно помасажуйте обличчя круговими рухами. Змийте. Використовуйте вранці та ввечері.
Склад Shiseido Future Solution LX Extra Rich Cleansing Foam
Склад Shiseido Future Solution LX Extra Rich Cleansing Foam